En este sitio tan mono, el Almaden Research Center, allá por el Valle del Silicio, en la soleada y tambaleada California, están los culpables, a sueldo de IBM… E IBM ha anunciado hoy que esos culpables han descubierto un modo de crear los patrones de líneas de alta calidad más pequeños que se hayan hecho hasta la fecha mediante fotolitografía, con luz del ultravioleta profundo (UVP, de 193 nanómetros), la tecnología que se utiliza para imprimir los circuitos en los chips. Las crestas espaciadas de manera uniforme sólo miden 29,9 nm de ancho, menos de 1/3 de los 90 nm que se utilizan habitualmente y por debajo de los 32 nm que se consideraba límite para las técnicas fotolitográficas.
Allá por 1965, a D. Gordon Earl Moore (que debía de tener una bola bastante potente) no se lo ocurrió otra cosa que decir aquello de que cada dos años, aproximadamente, se duplicaría el número de transistores de un ordenador. El buen señor acertó, pero hace ya algún tiempo que circulaban rumores sobre el fin de la validez de la llamada ley de Moore (que así se conoce el producto de las artes adivinatorias de aquél). Durante varios decenios, la industria de los semiconductores ha ido reduciendo continuamente el tamaño de los circuitos, aumentando el rendimiento y la funcionalidad de los chips y de los productos que los utilizan. Pero, a medida que los chips se acercan a los límites físicos fundamentales, de la escala de átomos y moléculas, es previsible que se interrumpa esa tendencia de perfeccionamiento continuo, mediante la miniaturización Estos nuevos resutados anunciados por IBM indican que una variante de la litografía UVP de “inmersión de índice elevado” puede ser una forma de ampliar la vigencia de la ley de Moore.
El Dr. Robert D. Allen, director de materiales litográficos del Almaden Research Center de IBM, sostiene que esta descubrimiento constituye la prueba más fuerte de que la industria de semiconductores podrá seguir adelante, sin grandes cambios, durante otros 7 años, por lo menos.
En las microfotografías que aparecen a continuación, ampliadas en la misma magnitud, pueden apreciarse las diferencias entre los resultados obtenidos por IBM y los de las técnicas de fabricación vigentes en la actualidad. La microfotografía de la izquierda nuestra el conjunto de conductores de 29,9 nm de ancho creado por los investigadores de IBM, utilizando la variante fotolitográfica aludida. La de la derecha muestra un grupo de conductores de 90 nm de ancho, del estilo de los que se fabrican en la actualidad. No está de más recordar que el filamento de 29,9 nm es unas 3.000 veces más pequeño que un pelillo humano.
